真空磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點

瀏覽：- 發(fā)布日期：2018-06-06 11:10:58【大中小】

真空鍍膜工藝分為多種，包括有真空磁控濺射鍍膜，蒸發(fā)鍍以及光學離子鍍。現在主要來講講磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點是什么，讓大家對這個電鍍工藝有所了解，對產品電鍍的選用工藝有所幫助。

首先，真空磁控濺射鍍膜通常應用在金屬產品上面，原理為在電場作用下，電子與氬原子產生碰撞，從而電力出大量氬離子和電子，氬離子加速轟擊靶材，靶原子沉積基片表面而成膜。靶材的材質主要有金屬靶材，金屬氧化物靶材等等。

每種工藝都有優(yōu)缺點，真空磁控濺射鍍膜的優(yōu)點就是，它電鍍的膜層純度高，附著力好，而且膜厚均勻，這樣的工藝重復性比較好。缺點當然也得注重，由于設備結構的復雜，如果濺射靶材被穿透，就會使整塊靶材報廢，所以靶材利用率低下就是缺點。

◆ 引進德國真空鍍膜設備，300℃高溫真空爐，使電鍍品更耐磨、色澤穩(wěn)定不易褪色；

◆ 配備全自動環(huán)保清洗過濾機，無塵車間操作，5S車間管理體系，ERP生產管理系統(tǒng)；

◆ 現有從事多年電鍍行業(yè)生產、管理和加工技術人員200余人，其中核心真空鍍膜技術人員8人；

◆ 所有產品均采用真空爐內納米離子鍍膜及磁控濺射處理，所應用的鍍料均有合格的檢測證明，電鍍質量高，綠色環(huán)保；

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